【第一參賽人/留學人員】王璠
【留學國家】美國
【技術領域】新材料
【參賽屆次】第9屆
【所獲獎項】入圍
【項目簡介】
本項目將世界上最前沿的微納光學技術應用于深度相機(LiDAR),實現(xiàn)低功耗、易量產(chǎn)、高清高幀率的全固態(tài)單芯片深度相機解決方案,填補國內(nèi)技術空白。為了更適應終端產(chǎn)品的穩(wěn)定性要求,激光雷達光束掃描技術正從純機械式到混合固態(tài)MEMS振鏡和全固態(tài)光相控陣(OPA)轉型。其中MEMS振鏡技術能有效降低激光雷達成本,但振鏡偏轉角度小、機械穩(wěn)定性不好,過車規(guī)比較困難;OPA技術體積最小,系統(tǒng)中沒有任何機械運動部件,能實現(xiàn)單芯片集成,預期成本最低,被普遍認為是未來的發(fā)展方向。Alpha Cen致力于晶圓級超表面光操控芯片和模組的研發(fā)。采用半導體IC兼容的工藝將微納光學超表面和電路、光源、光探測器等集成,讓光電系統(tǒng)變得更輕、更小、更智能。核心團隊由來自加州理工、斯坦福、Apple、TI等的科學家和工程師組成,具備從器件到芯片到量產(chǎn)產(chǎn)品的全棧研發(fā)能力。公司自2021年4月成立以來,專注于超表面工藝研發(fā),從單片die開始,到關鍵層工藝驗證,再到完整工藝和封裝的驗證,共完成了4輪流片。已與2023年1月發(fā)布Meta Beam Steerer, Meta Beam Shaper, Meta LiDAR等產(chǎn)品樣機。公司目前融資階段為Pre-A,投資人均為頭部美元VC,包括紅杉、源碼、火山石。目前公司已與國內(nèi)外大型電路fab廠形成穩(wěn)定合作,量產(chǎn)工藝流程全跑通。首批客戶應用領域包含醫(yī)療健康、消費、機器人、高端制造設備等。超表面是在平面上加工出一些比光的波長尺度小一些的微納結構,來操控光的幅值、相位、偏振等性質(zhì)。在有限空間內(nèi),超表面用極小的體積就可以進行高效的光束整形。我們用特定微納結構單元改變光的相位,對這些小的單元進行規(guī)律的排列 或 動態(tài)的控制,就能在宏觀上實現(xiàn)對光束的匯聚、整形、轉向等應用。 我們認為這個技術非常重要,有潛力像晶體管之于集成電路一樣重要,對光電行業(yè)產(chǎn)生深遠的影響。
【展開】
【收起】